Przemysłowy system cienkowarstwowych łuków próżniowych wykorzystuje katodowe odparowanie łukowe do osadzania gęstych, bardzo przyczepnych cienkich warstw metalicznych, stopowych i ceramicznych. Łuk o wysokim-prądzie i niskim-napięciem odparowuje stałe materiały katodowe w wysoce zjonizowany strumień plazmy (szybkość jonizacji 40% - 80%), zapewniając wyjątkową siłę wiązania folii-z-podłożem i dużą szybkość osadzania.
Platforma, zaprojektowana z myślą o produkcji przemysłowej i zaawansowanych badaniach materiałów, integruje konfiguracje wielo-katod, precyzyjne zarządzanie gazem reaktywnym i zautomatyzowaną kontrolę procesu dla powłok przemysłowych, takich jak TiN, TiAlN, CrN i DLC.
Specyfikacje techniczne
|
Parametr |
Specyfikacja |
|
Wymiary komory |
Phi 600 mm x 600 mm (możliwość dostosowania do Phi 1500 mm) |
|
Struktura komory |
Stal nierdzewna 304, podwójna-ścienna-chłodzona wodą, wewnątrz elektropolerowana Ra<= 0.4 um |
|
Ciśnienie podstawowe |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (ISO 3567 compliant) |
|
Ciśnienie robocze |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
|
Pakiet pompujący |
Łopatka obrotowa + dmuchawa Rootsa + wysoko-pompa dyfuzyjna/turbomolekularna |
|
Zasilanie łuku |
Generatory prądu stałego/impulsowego prądu stałego (10 A - 200 A, tętnienie<= 1%) |
|
Odchylenie podłoża |
Impulsowe odchylenie prądu stałego: 0 ~ -1000 V regulowane z tłumieniem łuku |
|
Źródła katodowe |
2–6 magnetycznych-filtrowanych źródeł łuku sterującego (Phi 85 / Phi 100 mm) |
|
Mocowanie podłoża |
Obrót planetarny (1 ~ 10 obr./min) z nagrzewaniem do 600 C |
|
Architektura sterowania |
PLC + przemysłowy komputer z ekranem dotykowym (automatyzacja receptur, opcja gotowości CFR 21 część 11) |
Kluczowe funkcje
Wysoka jonizacja plazmowa:Jonizacja łukiem katodowym (40% - 80%) sprzyja zarodkowaniu gęstej warstwy, eliminując defekty mikrostruktury kolumnowej.
Zwiększona siła przyczepności:Wysokoenergetyczne czyszczenie jonowe-na miejscu- pozwala uzyskać krytyczne obciążenia zarysowania (Lc) przekraczające 40 N na stali narzędziowej (zweryfikowane według ASTM C1624).
Toroidalna filtracja magnetyczna (opcjonalnie):Odchyla trajektorie plazmy, aby wychwytywać i eliminować makro-kropelki, tworząc-gładkie nano-powłoki pozbawione defektów.
Zamknięta-sterowanie reaktywne w pętli:Kontrolery przepływu masowego (MFC) precyzyjnie regulują N2, O2, C2H2 i Ar pod kątem stechiometrycznego osadzania związków.
Szybka konserwacja:Zespół katody-z szybkim uwalnianiem umożliwia wymianę tarczy w ciągu 30 minut.
Konfiguracja systemu próżniowego
Etap zgrubny i ukorzenienia:Obrotowe łopatki z napędem bezpośrednim{{0} i mechaniczna pompa wspomagająca do szybkiego pobierania do 10 Pa.
Stopień wysokiej próżni:Pompa dyfuzyjna oleju z wymrażaczem na ciekły azot lub lewitowana magnetycznie pompa turbomolekularna (1600 L/s) osiągająca < 5 x 10^-4 Pa.
Wskaźniki i blokady:Podwójne mierniki jonizacji Pirani i zimnej katody w połączeniu z automatycznymi pneumatycznymi zasuwami i blokadami PLC.
Materiały parujące i zgodność z podłożem
Cathode Targets (Purity >= 99.95%):
Metale:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Mo, W, Ag, Au
Stopy/związki:TiAl, TiSi, CrAl, WC, grafit (C)
Materiały podłoża:
Stale narzędziowe:SKH51, M2, D2, płytki węglikowe
Stopy:Stal nierdzewna 304/316L, Inconel, Ti-6Al-4V
Ceramika/Szkło:Tlenek glinu, kwarc (wymagana aktywacja powierzchni)
Aplikacje
Narzędzia do cięcia i formowania:Powłoki TiN, TiAlN i AlCrN na wiertłach, frezach palcowych i tłocznikach (twardość: 2500 - 3200 HV).
Komponenty samochodowe:Odporne na zużycie-powłoki na pierścieniach tłokowych i sworzniach wtrysku paliwa o niskim-tarciu.
Sprzęt dekoracyjny:Funkcjonalne wykończenia metaliczne (złoto, różowe złoto, brązowa czerń) do sprzętu konsumenckiego.
Implanty biomedyczne:Biokompatybilne twarde powłoki na urządzeniach chirurgicznych i stomatologicznych (profile kompatybilne z ISO 10993).
Opcje dostosowywania
Skala komory:Powiększone prostokątne lub cylindryczne komory do-wsadów o dużej objętości.
Konfiguracje hybrydowe:Integracja dwóch-technologii łączących źródła łuku katodowego z niezrównoważonym rozpylaniem magnetronowym (UBMS).
Tryby odchylenia:Integracja polaryzacji RF dla podłoży izolacyjnych lub półprzewodnikowych.
Integracja danych:Protokoły OPC UA / Modbus TCP do łączności MES.
Kontrola jakości i testowanie
Wykonane zgodnie ze standardami zarządzania jakością ISO 9001:
Wykrywanie wycieków helu:Badanie spektrometrem masowym wszystkich spoin (wskaźnik nieszczelności układu<= 1.0 x 10^-9 Pa*m^3/s, ISO 3529 compliant).
Bezpieczeństwo elektryczne:Rezystancja izolacji i ciągłość uziemienia skontrolowana zgodnie z CE / IEC 60204-1.
Walidacja funkcjonalna:72-godzinny ciągły suchobieg mechaniczny i elektryczny.
Fabryczne testy akceptacyjne (FAT):Próbne osadzanie weryfikujące jednorodność grubości (+/- 5%) i parametry przyczepności na kuponach testowych klienta.
Instalacja i wsparcie techniczne
Wstępne-sprawdzenie obiektu:Complete utility blueprint detailing cooling water (>= 5 m^3/h), wydajność mocy i wentylacja wyciągowa.
Uruchomienie na miejscu-:Nadzór nad rozmieszczeniem elementów mechanicznych, podłączeniem mediów i kwalifikacją podciśnienia przez inżynierów terenowych.
Szkolenie operatora:5-dniowy program praktyczny obejmujący rutynową obsługę, konserwację, wymianę tarcz i programowanie sterownika PLC.
Usługa cyklu życia:Bezpieczna zdalna diagnostyka VPN i 48-godzinna wysyłka krytycznych części zamiennych.
Często zadawane pytania
P: W jaki sposób filtracja magnetyczna wpływa na szybkość osadzania?
Odp.: Chociaż filtry magnetyczne całkowicie eliminują makro-kropelki w przypadku precyzyjnych powierzchni optycznych/elektronicznych, ścieżka sterowania plazmowego zmniejsza efektywną szybkość osadzania o około 20% - 30% w porównaniu z konfiguracjami bezpośredniego-bezfiltrowanego łuku sterującego.
P: Jaki jest typowy interwał wymiany docelowej?
Odp.: Standardowa tarcza tytanowa Phi 100 mm pracująca przy 100 A daje 60 - 100 partii produkcyjnych, w zależności od grubości powłoki i cyklu pracy.
P: Czy podłoża nieprzewodzące- są kompatybilne z tym systemem?
Odp.: Tak, pod warunkiem, że określono konfigurację polaryzacji impulsowej DC lub RF, aby zapobiec gromadzeniu się ładunku powierzchniowego i wyładowaniom łukowym podczas bombardowania jonowego.
P: Jakie są dokładne parametry użytkowe obiektu dla jednostki standardowej?
Odp.: Zasilanie: 3-fazowe, 380 V +/- 10%, 50/60 Hz (łącznie ~45 kW).
Cooling Water: >= 5 m^3/h przy 0.2 - 0.3 MPa (15°C - 25°C).
Sprężone powietrze: 0.5 - 0.7 MPa w przypadku uruchamiania pneumatycznego.
Popularne Tagi: system cienkowarstwowy z łukiem próżniowym, Chiny producenci, dostawcy, fabryka systemów cienkowarstwowych z łukiem próżniowym, Sprzęt cienki do technologii 5G, Sprzęt cienki do inteligentnej produkcji
