Przegląd produktu

 

Urządzenie PVD Composite Thin Film Equipment to przemysłowa platforma do osadzania próżniowego zaprojektowana z myślą o osadzaniu cienkich warstw wielowarstwowych, stopowych i nanokompozytowych. Integrując źródła rozpylania magnetronowego i łuku katodowego w jednej komorze próżniowej, system umożliwia precyzyjną kontrolę mikrostruktury folii, naprężeń szczątkowych i przyczepności międzyfazowej. Zbudowana z myślą o ciągłej produkcji oraz zaawansowanych pracach badawczo-rozwojowych, platforma obsługuje podłoża metalowe, ceramiczne i polimerowe o skalowalnej geometrii komory.

 
 
Dane techniczne

 

Parametr

Zakres specyfikacji

Ostateczne ciśnienie próżniowe

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Ciśnienie robocze

0,1 Pa - 5.0 Pa

Temperatura podłoża

Temperatura otoczenia do 800 stopni (sterowanie PID w-pętli zamkniętej)

Źródła osadzania

Konfigurowalne: rozpylanie magnetronowe DC/RF, impulsowy prąd stały, filtrowany łuk katodowy

Jednorodność grubości

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Materiał komory

Stal nierdzewna 304L/316L, szlifowana mechanicznie i-elektropolerowana (Ra<= 0.4 um)

Integracja zasilacza

Generatory MF (10–100 kHz), generatory RF (13,56 MHz), impulsowe napięcie prądu stałego

System sterowania

Przemysłowy sterownik PLC + IPC z automatycznym wykonywaniem receptur, monitorowaniem blokad i rejestracją danych wsadowych

 

Proces osadzania kompozytu

System wykorzystuje hybrydową architekturę fizycznego osadzania z fazy gazowej, łączącą technologię rozpylania magnetronowego i łuku katodowego.

Synergia wielu-źródeł:

Jednoczesne lub sekwencyjne działanie wielu katod pozwala na nagłe lub stopniowane przejścia składu w stosie folii.

 

Trawienie jonowe-Czyszczenie wstępne:

Etapy czyszczenia plazmowego RF lub DC usuwają natywne tlenki i zanieczyszczenia powierzchniowe przed osadzeniem, aby zmaksymalizować przyczepność powłoki-do-podłoża.

Kontrola osadzania reaktywnego:

Optyczna spektroskopia emisyjna-w pętli zamkniętej (OES) reguluje wtrysk gazu reaktywnego (O2, N2, C2H2), aby utrzymać stabilną stechiometrię związku i zapobiec zatruciu celu.

Odchylenie podłoża:

Zsynchronizowane zasilacze impulsowe bombardują rosnącą warstwę jonami-o wysokiej energii, zagęszczając mikrostrukturę i dostosowując resztkowe naprężenie ściskające.

 

Materiały filmowe

Sprzęt obsługuje szerokie spektrum materiałów docelowych dla dostosowanych wymagań funkcjonalnych:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Azotki i węgliki metali przejściowych:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN dla odporności na zużycie i korozję.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Systemy nanokompozytowe i wielowarstwowe:

TiSiN, AlTiSiN, nanowarstwy metaliczne/ceramiczne zapewniające ekstremalną twardość i stabilność termiczną-w wysokich temperaturach.

 
PVD Composite Thin Film System

Przezroczyste tlenki przewodzące (TCO):

ITO, AZO, IGZO do zastosowań optoelektronicznych i fotowoltaicznych.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Czyste metale i stopy:

Ti, Cr, Al, Cu, stal nierdzewna, NiCr do elektrycznych warstw barierowych stykowych i dyfuzyjnych.

 
Aplikacje
 
 
 

Precyzyjne narzędzia tnące:

Nakładanie super{0}}powłok-o niskim tarciu (np. TiAlN) na płytki z węglików spiekanych, wiertła i frezy-palcowe w celu wydłużenia okresu eksploatacji przy dużych obciążeniach termicznych.

 
 

Komponenty samochodowe:

Folie-redukujące tarcie i odporne na zużycie-na pierścieniach tłokowych, częściach wtrysku paliwa i zespołach przekładni.

 
 

Optoelektronika i wyświetlacze:

Warstwy tlenkowe o niskiej-rezystywności i wysokiej przepuszczalności{1}}do paneli dotykowych i podłoży ogniw słonecznych.

 
 

Urządzenia medyczne:

Biokompatybilne i odporne na zużycie-powłoki narzędzi chirurgicznych i implantów ortopedycznych.

 

 

Dostosowanie i konfiguracja systemu

Konfiguracje inżynieryjne są dostosowywane do specyficznych ograniczeń zakładu produkcyjnego i receptur procesowych:

Rozmiar komory:

Opcje komór cylindrycznych lub prostokątnych, od systemów wsadowych badawczo-rozwojowych (średnica 500 mm) po systemy śluz w-produkcyjnej-na dużą skalę (ponad 1000 mm).

01

Wybór zestawu pompującego:

Dopasowywanie dmuchaw Rootsa, pomp turbomolekularnych i kriogenicznych w oparciu o wymagane-przestoje pomp i profile obciążenia gazem.

02

Mocowanie podłoża:

Niestandardowe stopnie obrotu planet, obrót satelity w 3-osiach lub moduły typu roll-to-roll zaprojektowane pod kątem złożonych geometrii 3D lub ciągłych wstęg.

03

Poziom automatyzacji:

Pół{0}}automatyczne konfiguracje ręcznego ładowania lub w pełni zautomatyzowane systemy transportu próżniowego ze zrobotyzowaną obsługą podłoża.

04

 

Produkcja i kontrola jakości
 

Wykrywanie wycieków:

Każda komora próżniowa poddawana jest testowi szczelności za pomocą spektrometru mas z helem do progu < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Kontrola spoiny:

Spawy boczne-próżniowe są spawane metodą TIG, szlifowane i polerowane, a następnie na żądanie poddawane-kontroli rentgenowskiej lub penetracyjnej.

Zgodność z przepisami elektrycznymi i bezpieczeństwem:

Panele sterowania zbudowane zgodnie z normami NFPA 79 lub CE/IEC, wyposażone w blokady sprzętowe dotyczące przepływu wody, ciśnienia gazu i bezpieczeństwa elektrycznego.

Fabryczne testy akceptacyjne (FAT):

Testy przed-wysyłką obejmują 72-godziny ciągłej-pracy na sucho, weryfikację wydajności próżniowej i testowe osadzanie powłoki przy użyciu receptur określonych przez klienta.

 

 

Instalacja i wsparcie techniczne

Wytyczne dotyczące przygotowania miejsca:Dostarczono dokument kompleksowych wymagań obiektu, szczegółowo opisujący interfejsy mediów (przepływ/ciśnienie wody chłodzącej, obciążenie elektryczne, sprężone powietrze, wydech).


Uruchomienie na miejscu-:Inżynierowie serwisu terenowego przeprowadzają ustawienie mechaniczne, kontrolę szczelności podciśnienia, połączenia elektryczne- i wstępną kalibrację.


Dostrajanie receptury procesu:Współpraca-na miejscu z metalurgiami i inżynierami procesowymi klientów w celu ustalenia docelowych parametrów grubości, naprężenia i twardości powłoki.


Wsparcie cyklu życia:Interfejs zdalnej diagnostyki, zlokalizowany magazyn części zamiennych i zaplanowane programy konserwacji zapobiegawczej.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

Często zadawane pytania

 

 

P: Jaki jest typowy-czas przestoju pompy potrzebny do osiągnięcia ciśnienia podstawowego?

Odp.: Wykorzystując standardowe konfiguracje wysokiej-próżni (pompy turbomolekularne lub kriogeniczne w połączeniu z pompami korzeniowymi/łopatkowymi), komora opróżnia się z atmosfery do ciśnienia < 5,0 x 10^-4 Pa w ciągu 25 do 40 minut, w zależności od objętości komory i obciążenia odgazowaniem wilgoci.

P: Czy system może automatycznie przełączać się między reaktywnym i niereaktywnym trybem rozpylania-?

O: Tak. Oprogramowanie sterujące PLC dynamicznie zarządza sterownikami przepływu masowego (MFC) i wyjściami zasilania, umożliwiając automatyczne przejście pomiędzy osadzaniem metalu a tworzeniem związków reaktywnych w ramach jednego cyklu procesu.

P: Jakie geometrie podłoża może pomieścić standardowy stopień obrotu planety?

Odp.: Standardowy 3-osiowy uchwyt planetarny obsługuje złożone komponenty 3D, takie jak narzędzia skrawające i zawory samochodowe. Niestandardowe przyrządy można zaprojektować dla płaskich podłoży o wymiarach do 400 mm x 400 mm lub cylindrycznych rolek.

P: Jak zapewnić jednolitą grubość folii w dużych partiach?

Odp.: Jednolitość osiąga się dzięki zoptymalizowanej odległości-od-podłoża, symulacji profilu lokalnego pola magnetycznego i wieloosiowemu-obrocie planet. Rzeczywista jednorodność jest weryfikowana poprzez badanie próbki w obecności świadka podczas FAT.

P: Jakie są wymagania użytkowe dla standardowej jednostki przemysłowej?

Odp.: Zwykle wymaga zasilania 3-fazowego 380 V/480 V (50/60 Hz), zasilania schłodzoną wodą chłodzącą (około 15 do 20 stopni przy 3 do 4 barach), sprężonego powietrza (6 barów) do zaworów pneumatycznych oraz czystego, suchego powietrza lub azotu do odpowietrzania. Dokładne obciążenia różnią się w zależności od konfiguracji zasilania.

Jesteśmy dobrze-znani jako jeden z wiodących producentów i dostawców sprzętu cienkowarstwowego pvd w Chinach. Jeśli zamierzasz kupić niestandardowy sprzęt do cienkowarstwowych kompozytów pvd wyprodukowany w Chinach, zapraszamy do zapoznania się z cennikiem z naszej fabryki. W celu konsultacji cenowej skontaktuj się z nami.

Sprzęt wsadowy cienki, cienki sprzęt do inteligentnych urządzeń, Sprzęt litograficzny cienki
Wyślij zapytanie
Skontaktuj się z namijeśli masz jakieś pytanie

Możesz skontaktować się z nami telefonicznie, e-mailem lub korzystając z poniższego formularza online. Nasz specjalista wkrótce się z Tobą skontaktuje.

Skontaktuj się teraz!