Hybrydowy system osadzania cienkich warstw PVD łączy odparowanie termiczne, odparowanie wiązką elektronów (wiązką e-) i rozpylanie magnetronowe RF/DC w ramach jednej architektury próżniowej. Platforma ta umożliwia sekwencyjne lub współ-osadzanie metali, stopów i dielektryków bez przerywania próżni, zapobiegając utlenianiu międzyfazowemu. Zaprojektowany dla instytucji badawczo-rozwojowych i pilotażowych linii produkcyjnych, system obsługuje podłoża o grubości do 6 cali dzięki automatycznemu obrotowi wieloosiowemu-.
Dane techniczne
|
Parametr |
Specyfikacja |
|
Ostateczne ciśnienie podstawowe |
< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out) |
|
Czas pompowania- |
< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa |
|
Rozmiar podłoża |
Wafle / niestandardowe uchwyty o średnicy do 6 cali |
|
Jednorodność grubości folii |
<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation) |
|
Źródła osadzania |
Do 3 kieszeni na wiązkę e-, 2 łodzie termiczne, 4 katody magnetronowe |
|
Temperatura podłoża |
Temperatura otoczenia do 800 stopni C (sterowanie PID) |
|
Materiał komory |
Stal nierdzewna 304L/316L elektropolerowana |
|
Zgodność z bezpieczeństwem |
Zgodny z CE; komponenty zbudowane zgodnie ze standardami UL / NFPA na żądanie |
Kluczowe funkcje
Gniazda modułowe:Wymienne kołnierze źródłowe umożliwiają szybką rekonfigurację między katodami napylającymi a parownikami termicznymi/e-wiązkami e-beamowymi.
Architektura izolacji:Pneumatyczne zasuwy izolują komorę procesową od-komora wysokiej próżni, aby zminimalizować wytwarzanie cząstek.
Monitorowanie-na miejscu:Dedykowane porty dla czujników mikrowagi kwarcowej (QCM) i optycznej spektroskopii emisyjnej (OES).
Połączony sterownik bezpieczeństwa PLC:Blokady sprzętowe uniemożliwiają aktywację źródła w przypadku wysokiego ciśnienia, awarii wody chłodzącej lub naruszenia bezpieczeństwa.
Konfiguracja systemu próżniowego
Pompa zgrubna:Pompa typu Dry Scroll (30 m^3/h) eliminująca przepływ wsteczny węglowodorów.
Pompa wysokiej próżni:Magnetycznie lewitowana pompa turbomolekularna (1200 L/s dla N2) wspierana przez pułapkę kriogeniczną.
Wskaźniki:Połączone czujniki Piraniego i zimnej katody obejmujące atmosferę do 10^-7 Pa.
Pieczenie:Płaszcze grzejne kasetowe z zewnętrznymi kocami izolacyjnymi osiągającymi temperaturę do 150 st. C.
Kompatybilność materiałów i podłoża
Materiały do odparowania:
Metale:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Cu, Ni
Dielektryki i tlenki: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO
Półprzewodniki:Si, Ge
Rodzaje podłoża:Płytki krzemowe monokrystaliczne, folie szklane, kwarcowe, poliimidowe i metalowe.
Aplikacje
Urządzenia optoelektroniczne:Przezroczyste elektrody przewodzące (ITO) i wielowarstwowe-odbłyśniki do diod OLED i ogniw słonecznych.
Opakowanie mikroelektroniczne:Metalizacja pod-wypukłościami (UBM) i warstwy początkowe do pakowania na poziomie wafla.
Zaawansowane badania i rozwój:Struktury urządzeń kwantowych, cienkie warstwy nadprzewodników i magnetyczne złącza tunelowe (MTJ).
Opcje dostosowywania
Skala komory:Rozszerzone wymiary dla 12-calowych podłoży lub integracji ze schowkiem rękawicowym.
Konfiguracja źródła:Niestandardowe objętości tygli, zasilacze polaryzacyjne RF i moduły-wspomaganego osadzania jonowego (IAD).
Automatyzacja:Zarządzanie recepturami na ekranie dotykowym lub pełna zgodność z automatyką fabryczną SECS/GEM.
Kontrola jakości
Testowanie szczelności:Badanie spektrometrem masowym z helem na komorę (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).
Kontrole wymiarowe:Weryfikacja odległości źródła-do-podłoża i tolerancji kołnierza na maszynie współrzędnościowej.
Testowanie elektryczne:Cześć-Testowanie garnków, sprawdzanie ciągłości uziemienia i audyty BHP na wszystkich liniach-wysokiego napięcia.
Instalacja i wsparcie
Fabryczne testy akceptacyjne (FAT):Przed{0}}wysyłką sprawdzamy ciśnienie podstawowe, działanie źródła i automatyczny cykl w naszym zakładzie.
Instalacja w terenie:Mechaniczne ustawienie-na miejscu, weryfikacja podłączenia mediów i test akceptacji obiektu (SAT).
Dokumentacja:Kompletna dostawa obejmuje schematy elektryczne, diagramy P&ID, kopie zapasowe PLC i certyfikaty testów walcowni.
Często zadawane pytania
P: Czy system może przełączać się między reaktywnym rozpylaniem a odparowaniem termicznym w jednym cyklu?
O: Tak. Pneumatyczne żaluzje izolują każde źródło, umożliwiając sekwencyjną realizację bez przerywania próżni.
P: Jakie są wymagania dotyczące użyteczności obiektu?
Odp.: Wymaga zasilania trójfazowego 380 V/480 V, wody chłodzącej (18°C do 22°C przy 0,3 MPa), sprężonego powietrza (0,5 do 0,7 MPa) i przewodu wylotowego pompy wstępnej.
P: W jaki sposób zapobiega się-zakażeniom krzyżowym źródeł metalicznych?
Odp.: Indywidualne kominy źródłowe, przegrody kierunkowe i fizyczne żaluzje minimalizują przenikanie-materiałów podczas pracy z wieloma-źródłami.
Popularne Tagi: hybrydowy system osadzania cienkowarstwowych pvd, Chiny producenci, dostawcy, fabryka hybrydowych systemów osadzania cienkowarstwowych pvd, Sprzęt do powlekania ostrzy cienki, Sprzęt do wiązania cienkiego, Sprzęt cienki do oczyszczania wody, cienki warstwowy system próżniowy
