Przegląd produktu

 

Przemysłowy sprzęt do powlekania wielo-łukowego, zaprojektowany do nakładania twardych powłok, folii funkcjonalnych i dekoracyjnych wykończeń PVD na precyzyjne komponenty. Wykorzystując wysoko-prąd i niskie-napięcie wyładowania łukowego próżniowego, system bezpośrednio odparowuje stałe materiały docelowe (Ti, Cr, Al, Zr). W połączeniu z reaktywnymi gazami (N2, O2, C2H2) syntetyzuje gęste azotki, węgliki i tlenki metali przejściowych bezpośrednio na podłożach metalicznych.


To gotowe rozwiązanie PVD, zbudowane w oparciu o modułową architekturę komory próżniowej, obsługuje różne skale produkcyjne-od przetwarzania wsadowego w ramach prac badawczo-rozwojowych po zautomatyzowaną-produkcję inline o wysokiej wydajności. System jest zoptymalizowany pod kątem wysokiego wykorzystania docelowego i niskiego całkowitego kosztu posiadania (TCO) w środowiskach przemysłowych działających nieprzerwanie przez całą dobę, 7 dni w tygodniu.

 
 
Dane techniczne

 

Parametr

Zakres specyfikacji

Jednostka / Uwaga

Wymiary komory

Ф600 x 600 do Ф1500 x 1800

mm (niestandardowe konfiguracje pionowe lub poziome)

Ostateczne ciśnienie próżniowe

<= 5.0 x 10^-4

Pa (pompa sucha + zestaw turbo-molekularny / dyfuzyjny olejowy)

Źródła łuku katodowego

4 do 16 jednostek

Elektromagnetyczne sterowane lub filtrowane źródła łuku (FCA)

Moc odchylenia podłoża

0 do -1000

V (zaawansowane możliwości polaryzacji impulsowej DC/MF)

Temperatura ogrzewania

Temperatura pokojowa do 600

C (promienniki sterowane PID)

Jednolitość osadzania

<= +/- 5%

Mierzone za pomocą XRF w efektywnej strefie pracy

System sterowania

PLC + komputer przemysłowy

Automatyczne wykonywanie receptur, rejestracja danych SCADA

Bezpieczeństwo i zgodność

CE, ISO9001

Obudowy elektryczne zgodne z UL-dostępne na żądanie

 

 

Proces osadzania jonów przy użyciu wielu-łuków łukowych

Sekwencja fizycznego osadzania gazowego działa w oparciu o ścisły, zautomatyzowany przepływ pracy w zamkniętej pętli-, aby zapewnić powtarzalność poszczególnych partii:-do-partii:


Ewakuacja i odgazowanie:

Komorę próżniową pompuje się do ciśnienia bazowego wynoszącego<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.


Wytrawianie plazmowe (bombardowanie):

Wprowadza się gaz argonowy. Do uchwytu podłoża przykładane jest duże ujemne odchylenie, generując jony Ar, które bombardują powierzchnię, usuwając natywne tlenki i mikro-zanieczyszczenia.

Parowanie i jonizacja łuku:

Prąd łuku prądu stałego uderza w solidną metalową katodę. Lokalna plamka katodowa osiąga ekstremalną gęstość energii, natychmiast odparowując materiał docelowy, tworząc strumień plazmy-o dużej gęstości (szybkość jonizacji > 80%).

Reaktywne osadzanie:

Gazy reaktywne są wtryskiwane do strumienia plazmy pod precyzyjnie kontrolowanym ciśnieniem cząstkowym za pośrednictwem kontrolerów przepływu masowego (MFC), tworząc stechiometryczne warstwy złożone na obracających się podłożach.

Chłodzenie i wentylacja:

Kontrolowane chłodzenie odbywa się w osłonie gazu obojętnego przed odpowietrzeniem komory, co zapobiega utlenianiu świeżo pokrytych części.

 

Materiały filmowe i właściwości powłok

System obsługuje układy z wieloma-metalowymi katodami, umożliwiając tworzenie architektur jednowarstwowych, wielowarstwowych, nano-kompozytowych i gradientowych:

Multi-Arc Vacuum Deposition Equipment

TiN (azotek tytanu):

Standardowa złota powłoka; twardość 2200–2400 HV; współczynnik tarcia 0,4. Podstawowe zastosowanie: ogólne narzędzia skrawające i mechaniczne części eksploatacyjne.

Multi-Arc Ion Thin Film System

TiAlN (azotek tytanu i glinu):

Odporność na utlenianie w wysokiej-temperaturze do 850 C; twardość 3000–3300 HV. Podstawowe zastosowanie:-wysokoobrotowe płytki do obróbki na sucho i zawory silników.

Multi-Arc Ion Thin Film System

CrN / CrAlN (azotek chromu):

Doskonała odporność na korozję i niskie naprężenia wewnętrzne; właściwości przeciw-zatarciom metali nieżelaznych. Podstawowe zastosowanie: formy formujące, pierścienie tłokowe i elementy maszyn tekstylnych.

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

ZrN/TiCN:

Niska chropowatość powierzchni (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.

 

 

Aplikacje

 

Precyzyjne narzędzia tnące:

Frezy palcowe, wiertła, płyty frezarskie i płytki wymienne wymagające dłuższej trwałości narzędzia przy dużych obciążeniach termicznych.

01

Samochodowy układ napędowy:

Sworznie tłokowe, popychacze, elementy wtrysku paliwa i powierzchnie przekładni wymagające zmniejszonego tarcia granicznego i odporności na zacieranie.

02

Formy i matryce:

Formy wtryskowe z tworzyw sztucznych, tłoczniki i wkładki-do odlewania ciśnieniowego wymagające odporności na zużycie adhezyjne i zmęczenie cieplne.

03

Komponenty lotnicze:

Łopatki turbin i tytanowe elementy złączne pracujące w środowiskach agresywnych, korozyjnych i pod wysokim-naprężeniami.

04

 

Dostosowanie i konfiguracja systemu
 

Standardowe pozycje katalogowe rzadko idealnie pasują do dedykowanych układów fabrycznych. Konfiguracje sprzętu są dostosowywane w oparciu o konkretną geometrię komponentów, docelowy czas cyklu i ograniczenia obiektu:

Geometria komory:

Ośmioboczne lub cylindryczne komory ze stali nierdzewnej (SUS304/SUS316L) z podwójnymi-płaszczami-wodnymi chłodzącymi.

Układ źródłowy:

Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).

Mocowanie podłoża:

Mechanizmy obrotu planetarnego (3-osie) lub mechanizmy pojedynczego obrotu napędzane przepływem płynu magnetycznego, gwarantujące równomierne pokrycie powłoką na złożonych geometriach 3D.

Opcje stosu pompującego:

Dmuchawy Rootsa, obrotowe pompy łopatkowe, pompy kriogeniczne lub pompy turbomolekularne skonfigurowane tak, aby spełniały rygorystyczne{0}}czasy cykli pompowania.

 

Protokoły kontroli jakości i testów

Każda maszyna przed wysyłką przechodzi rygorystyczne testy akceptacji fabrycznej (FAT), udokumentowane do wglądu kupującego:

01

Test integralności próżni:

Wykrywanie wycieków helu z wykorzystaniem spektrometrii mas (wskaźnik wycieku<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).

02

Bezpieczeństwo elektryczne i oparzenia-w:

72-godzinna ciągła praca na sucho zasilaczy, blokady chłodzenia wodnego i logika automatyki PLC.

03

Weryfikacja powłoki (-własne laboratorium):

Próbki testowano za pomocą testu Calo-(grubość powłoki), wcięcia Rockwella (siła przyczepności) i nanowcięcia (twardość).

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

 

Instalacja, uruchomienie i wsparcie techniczne

Wytyczne dotyczące przygotowania miejsca:

Dostarczono szczegółowe rysunki rozmieszczenia mediów dotyczące przepływu/ciśnienia wody chłodzącej, sprężonego powietrza, wentylacji wyciągowej i wymagań dotyczących szyn elektrycznych.

SAT i uruchomienie:

Instalacja-na miejscu (testowanie akceptacji na miejscu), kalibracja próżniowa i przekazanie podstawowej receptury wykonane przez starszych inżynierów procesu PVD.

Szkolenie procesowe:

Praktyczne-szkolenie operatorów obejmujące harmonogramy wymiany katod, zapobiegawczą konserwację próżni, rozwiązywanie problemów i podstawową optymalizację receptur.

Wsparcie części zamiennych:

Krytyczne komponenty zużywalne (katody, osłony, izolatory i uszczelki) dostępne w magazynie z możliwością wysyłki na cały świat w ciągu 48 godzin.

 

 

 

Często zadawane pytania

 

 

P: Jak tłumić makrocząsteczki (kropelki) występujące w procesie platerowania jonowego-z wieloma łukami?

Odp.: Wykorzystujemy regulowane magnetyczne pola sterujące w połączeniu ze zoptymalizowanymi kształtami fal prądu łuku, aby stabilizować plamki katodowe i zmniejszać emisję kropel. W przypadku-wyjątkowych zastosowań optycznych lub medycznych system można zintegrować ze źródłami filtrowanego łuku katodowego (FCA).

P: Jaki jest typowy czas realizacji niestandardowej konfiguracji komory?

Odp.: Konfiguracje standardowe są wysyłane w ciągu 16–20 tygodni. W pełni dostosowane wymiary komór, zautomatyzowane interfejsy załadunku robotów lub specjalistyczne systemy pomp kriogenicznych wymagają od 24 do 30 tygodni od zatwierdzenia rysunku P&ID.

P: Czy system może przechowywać wiele receptur powłok dla różnych rodzin części?

O: Tak. Przemysłowy system sterowania PLC przechowuje do 100 indywidualnych receptur procesowych. Umożliwia to automatyczne,-wykonanie za jednym dotknięciem za pomocą kontrolerów masowego przepływu gazu (MFC), zwiększanie napięcia polaryzacji, sekwencjonowanie prądu łuku i określone czasy kroków.

Jesteśmy dobrze-znani jako jeden z wiodących producentów i dostawców sprzętu cienkowarstwowego z wieloma-łukami łukowymi w Chinach. Jeśli zamierzasz kupić niestandardowy sprzęt cienkowarstwowy z wieloma-łukami łukowymi wyprodukowany w Chinach, zapraszamy do zapoznania się z cennikiem z naszej fabryki. W celu konsultacji cenowej skontaktuj się z nami.

cienki warstwowy sprzęt ciągły, Sprzęt cienki do MEMS, Sprzęt cienki dla czujników i siłowników
Wyślij zapytanie
Skontaktuj się z namijeśli masz jakieś pytanie

Możesz skontaktować się z nami telefonicznie, e-mailem lub korzystając z poniższego formularza online. Nasz specjalista wkrótce się z Tobą skontaktuje.

Skontaktuj się teraz!