Przemysłowy system Multi-Arc PVD wykorzystuje-fizyczne osadzanie z fazy gazowej za pomocą katodowego łuku jonizacyjnego do osadzania gęstych, stechiometrycznych twardych powłok (takich jak TiN, TiAlN, CrN i DLC) na podłożach metalowych. Zaprojektowany z myślą o-centrach powlekania kontraktowego o dużej objętości i liniach produkcyjnych na potrzeby własne, system ten optymalizuje odporność na zużycie, redukcję tarcia i stabilność termiczną precyzyjnych komponentów.
Dane techniczne
|
Parametr |
Zakres specyfikacji |
|
Wymiary komory |
Konfiguracje niestandardowe (średnica. 800 x 1000 mm do średnicy. 1500 x 1500 mm, stal nierdzewna 304/316L) |
|
Ostateczne ciśnienie próżniowe |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo Molecular & Roots Pump configuration) |
|
Robocze ciśnienie próżniowe |
0,1 do 3,0 Pa (sterowane za pomocą cyfrowych MFC) |
|
Zasilanie katodowe |
Łuk DC: 100 A - 200 A; Odchylenie impulsowe: regulowane od 0 do -1000 V |
|
Obrót mocowania podłoża |
Obrót planetarny, 0 - 10 obr/min, udźwig do 500 kg |
|
System grzewczy |
Promienniki ze stali nierdzewnej, maksymalna temperatura 600 st. C (równomierność +/- 5 st. C) |
|
Kontrola procesu |
PLC + komputer przemysłowy, automatyczne wykonywanie receptur, rejestrowanie danych w czasie rzeczywistym- |
|
Wymagania użytkowe |
Woda chłodząca: 0.2 - 0.3 MPa, 25 stopni C; Zasilanie: 380 V, 3 fazy, 50/60 Hz |
Kluczowe funkcje
Filtrowane źródła łuku katodowego:Filtrowanie magnetyczne minimalizuje powstawanie makrocząstek (kropel), zapewniając gładsze wykończenie powierzchni (Ra < 0,1 um).
Konfiguracja magnetronu z niesymetrycznym polem zamkniętym-: Enhances substrate-zone plasma density, achieving film adhesion scratch-test critical load Lc >= 80 N.
Podwójna-regulacja przepływu gazu:Sterowanie ze sprzężeniem zwrotnym w-pętli zamkniętej przy użyciu manometrów pojemnościowych i-wysoko precyzyjnych MFC dla gazów reaktywnych (N2, C2H2, O2).
Modułowe źródła osadzania:Wymienne układy planarne i cylindryczne umożliwiają szybkie przełączanie celów w architekturach wielo-warstwowych.
Konfiguracja systemu próżniowego
Pompa zgrubna:Mechaniczne podłoże z łopatką obrotową lub suchą śrubą w celu wyeliminowania cofania się oleju.
Pompa wysokiej próżni: Magnetic levitation turbo molecular pump (>= 3200 L/s) w połączeniu z dmuchawą do korzeni.
Uszczelnienia i zawory:Pneumatyczne zasuwy, kołnierze ISO-F/CF z uszczelkami Viton/metal; współczynnik nieszczelności spektrometru mas z helem < 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Monitorowanie ciśnienia:Połączone mierniki jonizacji Piraniego i zimnej katody.
Materiały parujące i zgodność z podłożem
Standardowe cele katodowe:Ti, Al, Cr, TiAl, Zr, Cu, Graphite (purity >= 99.95%).
Materiały podłoża:Węgliki spiekane (WC-Co), HSS, stale stopowe (SKD11, 40Cr), stopy tytanu (Ti-6Al-4V) i stal nierdzewna (304, 316L).
Leczenie wstępne-:Wymaga odtłuszczania ultradźwiękowego i-trawienia jonami w plazmie argonowej in situ (bombardowanie Ar+) w celu wyeliminowania tlenków powierzchniowych przed osadzeniem.
Aplikacje
Narzędzia do cięcia i formowania:Frezy trzpieniowe, frezy obwiedniowe i płytki pokryte TiAlN/TiN wydłużające żywotność narzędzia o 200% - 400% w przypadku obróbki na sucho.
Komponenty samochodowe:Pierścienie tłokowe, sworznie wtryskiwaczy i popychacze pokryte CrN/DLC w celu zmniejszenia tarcia granicznego i zatarcia.
Urządzenia medyczne:Śruby ortopedyczne, ostrza chirurgiczne i filary dentystyczne wykorzystujące TiN/ZrN w celu zapewnienia biokompatybilności i odporności na korozję.
Sprzęt przemysłowy:Mold cavities and precision gears requiring high surface hardness (>3000 HV).
Personalizacja
Rozmiar komory:Dostosowane średnice wewnętrzne i profile wysokości skalowane do określonych objętości partii lub ponadgabarytowych detali.
Układ katody:Od 4 do 12 konfigurowalnych szczelin źródeł łuku rozmieszczonych symetrycznie, aby zapewnić rozkład grubości w zakresie +/- 8%.
Integracja odchylenia:Opcjonalna integracja hybrydowa-pulsacyjnego rozpylania magnetronowego (HPPMS) ze standardowymi źródłami łuku katodowego.
Automatyzacja:Integracja z automatycznymi ramionami załadowczymi i systemami realizacji produkcji SCADA.
Kontrola jakości
Kontrola materiału:Spectrographic analysis verifying raw target metallic purity (>= 99.95%).
Testy strukturalne:Weryfikacja wymiarowa komór CMM i badanie ciśnienia hydrostatycznego kanałów chłodzących.
Fabryczne testy akceptacyjne (FAT):72-godziny ciągłego testu-na sucho, obejmującego rotację mechaniczną, krzywe odpompowywania i stabilność termiczną.
Weryfikacja powłoki:Kupony testowe oceniano za pomocą testu-na-dysku zużycia, wcięcia Rockwella i-analizy grubości przekroju poprzecznego FESEM.
Instalacja i wsparcie techniczne
Przygotowanie miejsca:Szczegółowa dokumentacja inżynierska dotycząca ograniczeń obciążenia podłogi, natężenia przepływu wody chłodzącej i wymagań dotyczących szyn elektrycznych.
Uruchomienie:Instalacja-na miejscu, kalibracja próżniowa i przekazanie receptury procesu bazowego przez inżynierów terenowych.
Szkolenie operatora:Ustrukturyzowane programy obejmujące rutynową konserwację, wymianę elementów docelowych, poszukiwanie wycieków i podstawowe rozwiązywanie problemów ze sterownikami PLC.
Wsparcie cyklu życia:Integracja zdalnego interfejsu diagnostycznego w celu-rejestrowania parametrów w czasie rzeczywistym i szybkiego izolowania usterek.
Często zadawane pytania
P: Jaki jest typowy docelowy stopień wykorzystania katody?
Odp.: Katody z łukiem płaskim zwykle osiągają wykorzystanie od 45% do 60% w zależności od profilu erozji magnetycznej.
P: W jaki sposób system łagodzi makrocząsteczki?
Odp.: Sterujące pola magnetyczne i opcjonalne kanały z filtrowanym łukiem katodowym (FCVA) wychwytują połączone makrocząstki przed dotarciem do podłoża.
P: Jaki jest średni czas cyklu procesu?
Odp.: Standardowe osadzanie TiAlN zajmuje 3 - 4 godzin i obejmuje pompowanie-, ogrzewanie, trawienie, osadzanie i chłodzenie 3 - 5 um filmu.
P: Czy w komorze wymagane są dodatkowe grzejniki?
O: Tak. Zespoły promiennikowe podgrzewają podłoża do temperatury 350 stopni C - 550 stopni C, aby uwolnić wilgoć i zapewnić przyczepność powłoki.
Popularne Tagi: sprzęt cienkowarstwowy multi-arc pvd, Chiny producenci sprzętu cienkowarstwowego multi-arc pvd, dostawcy, fabryka, Sprzęt cienki do dużych zbiorów danych, Sprzęt cienki do energii odnawialnej

