Sprzęt do kompozytów cienkowarstwowych PVD to przemysłowa platforma próżniowa przeznaczona do syntezy cienkich warstw wielo-, stopowych i stopniowanych. Zbudowany w oparciu o modułową architekturę ze stali nierdzewnej 304L/316L, integruje do czterech niezależnych źródeł osadzania,-w tym rozpylanie magnetronowe DC/RF, odparowywanie wiązką elektronów i źródła ciepła-w jedną-komorę z kontrolowaną skażeniem. System zapewnia precyzyjną kontrolę nad mikrostrukturą folii, naprężeniami szczątkowymi i gradientami składu dla linii produkcyjnych oraz zaawansowanych badań i rozwoju.
Dane techniczne
|
Parametr |
Specyfikacja |
Standard/Warunek |
|
Ostateczne ciśnienie podstawowe |
<= 5.0 x 10^-6 Pa |
Wsparcie Cryo/Turbo |
|
Ciśnienie robocze |
0,1 do 5,0 Pa |
Zależne od procesu |
|
Pojemność podłoża |
Wafle φ300 mm lub podłoża 400 x 400 mm |
Możliwość zamówienia palet na wymiar |
|
Jednorodność grubości |
<= ±2% |
Mierzone na całej powierzchni podłoża |
|
Temperatura podłoża |
Temperatura pokojowa do 800 stopni |
Sterowanie PID w-pętli zamkniętej |
|
Porty osadzania |
4 niezależne gniazda modułowe |
Możliwość konfiguracji napylania /-wiązki E |
|
Budowa komory |
Stal nierdzewna 304L / 316L |
Elektro-polerowany, Ra<= 0.2 μm |
|
Dystrybucja mocy |
DC, RF (13,56 MHz), impulsowe DC, polaryzacja |
Blokada bezpieczeństwa PLC |
Kluczowe funkcje
Modułowa architektura z wieloma-źródłami:Wykonuje osadzanie sekwencyjne lub współ-z maksymalnie czterech źródeł w jednym cyklu próżniowym.
Ultra-Integralność czystego odkurzacza:Wykorzystuje-uszczelnione metalem kołnierze CF, pneumatyczne zasuwy i-bezolejowe pompowanie zgrubne/turbomolekularne, aby zapobiec zanieczyszczeniu węglowodorami.
Dynamiczne odchylanie podłoża:Odchylenie RF/DC o zmiennej częstotliwości kontroluje przychodzącą energię jonów, regulując gęstość, twardość i naprężenie folii.
Zautomatyzowana kontrola receptur:Przemysłowe sterowniki PLC i interfejsy HMI przechowują do 200 profili procesów, automatyzują-wyłączanie pompowania, uruchamianie żaluzji i odpowietrzanie.
Porty monitorowania-na miejscu:Wstępnie-skonfigurowane kołnierze mieszczą czujniki grubości QCM i optyczne spektrometry emisyjne (OES).
Podsystemy próżniowe i gazowe
Stos pompujący:Pompy-bezolejowe/zgrubne pompy śrubowe w połączeniu z lewitowanymi magnetycznie turbopompami lub kriopompami osiągają ciśnienie 5 x 10^-6 Pa z atmosfery w ciągu 45 minut.
Dostawa gazu:Kontrolery przepływu masowego (MFC) regulują Ar, O2 i N2 z dokładnością ±1% pełnej skali; zintegrowane oczyszczacze utrzymują czystość gazu na poziomie 99,9999%.
Zarządzanie ciepłem:Korpusy komór są wyposażone w podwójne-ścienne-kanały chłodzące wodę, które stabilizują wymiary konstrukcyjne podczas pracy w wysokich-temperaturach.
Kompatybilność materiałów i podłoża
Obsługiwane materiały
Metale:Ti, Cr, Al, Cu, Au, Pt, NiCr, TiAl
Dielektryki / Tlenki:SiO2, TiO2, Al2O3, Si3N4
Twarde powłoki:Międzywarstwy TiN, TiCN, CrN, DLC
Kompatybilność podłoża
Płytki krzemowe (φ100 mm do φ300 mm).
Topiona krzemionka, kwarc i ceramiczne podłoża optyczne.
Stale narzędziowe i stopy tytanu wymagające wstępnego-czystego trawienia plazmowego RF.
Aplikacje
Półprzewodnik:Warstwy barierowe, warstwy początkowe i łączące stosy metali.
Optyka:Optyczne filtry przeciwzakłóceniowe,-powłoki antyrefleksyjne (AR) i lustra o wysokim-odblasku.
Ochrona przed zużyciem:Wielowarstwowe-twarde powłoki do narzędzi skrawających i komponentów lotniczych.
Magazynowanie energii:Cienkie warstwy do-stałych elektrolitów akumulatorowych i kolektorów prądu.
Personalizacja
Geometria komory:Modyfikuj wymiary wewnętrzne lub kąty portów, aby dopasować je do starszego sprzętu lub doków w komorze rękawicowej.
Adaptacja źródła:Integruj określone parametry-działów e-wiązkowych, długości magnetronów lub łodzie termiczne.
Integracja oprogramowania:Skonfiguruj logikę PLC tak, aby była zgodna z protokołami SCADA obiektu lub standardami SECS/GEM.
Kontrola jakości
Wykrywanie wycieków:Testy na spektrometrze masowym z helem zweryfikowane do 1 x 10^-10 Pa·m3/s.
Bezpieczeństwo elektryczne:Ciągłość uziemienia, rezystancja izolacji i weryfikacja-zatrzymania E zgodnie z normami CE/NFPA.
Przed-przebiegiem wysyłki:Fabryczne osadzanie testowe weryfikuje ciśnienie podstawowe, stabilność źródła i jednolitość grubości; arkusze danych dostarczane z urządzeniem.
Instalacja i wsparcie
Dokumentacja:Kompletne schematy elektryczne, diagramy P&ID, instrukcje obsługi PLC i certyfikaty kalibracji.
Akceptacja fabryczna (FAT):Kontrola i weryfikacja u klienta odbywa się w naszej hali produkcyjnej przed pakowaniem.
Uruchomienie (SAT):Inżynierowie terenowi nadzorują ustawienie mechaniczne, podłączenie mediów i-testy akceptacyjne na miejscu.
Często zadawane pytania
P: Jaki jest standardowy czas realizacji systemu?
Odp.: 16 do 24 tygodni, w zależności od objętości komory, ilości źródła i niestandardowych wymagań w zakresie automatyzacji.
P: Czy system może przełączać się między rozpylaniem RF a odparowywaniem-wiązki E bez przerywania próżni?
O: Tak. Architektura wielo-portowa umożliwia automatyczne osadzanie sekwencyjne z różnych źródeł w ciągłej próżni.
P: Jakie przyłącza mediów są wymagane na-zakładzie?
Odp.: 3-fazowe zasilanie prądem zmiennym, woda lodowa w obiegu zamkniętym (18–22 stopnie), sprężone powietrze (0,6 MPa) i dedykowane linie gazu procesowego.
P: W jaki sposób regulowana jest temperatura podłoża podczas przetwarzania?
Odp.: W uchwytach podłoża zastosowano wbudowane termopary lub pirometry optyczne połączone z podgrzewaczami PID-w pętli zamkniętej i tylnym chłodzeniem poprzez przewodnictwo gazowe.
Popularne Tagi: sprzęt do kompozytów cienkowarstwowych pvd, Chiny producenci, dostawcy, fabryka sprzętu do kompozytów cienkowarstwowych pvd, Sprzęt cienki do produkcji urządzeń sztucznej inteligencji, Sprzęt cienki do dużych zbiorów danych
